紫外光清洗机GQX-WF04(图)|北京航天高力通科技发展有限公司|电子生产设备网

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紫外光清洗机GQX-WF04(图)

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发布时间:		产品规格:	GQX-WF04
有效期:		产品数量:	不限
浏览人数:		包装说明:	严格防震打包
产地:	北京北京	价格说明:	0

详细说明

GQX-WF型光清洗机为往返式单机工作，体积小，使用方便，适用于
LCD、OLED、光学薄膜和石英晶体等行业小批量生产和科学研究试验使用。
该机采用大小适中的高强度面光源，可根据实际需要选择自动或手动进出，光清洗过程自动控制，光清洗完毕自动送出托盘时伴有蜂鸣提示。
该机有较好的光源工作状态监视系统和完善的防光泄漏技术措施。
GQX-WF光清洗机外形尺寸：850×550×940mm。
GQX-WF光清洗机最大处理面积为：500×240mm。
   紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信息产业的发展而提出来的。七十年代中期美国军事电子技术和器件实验室应用紫外光照射清洗石英晶片取得满意的效果。但是，美国在较长的时间里紫外光表面清洗技术主要在军事领域中进行研究性应用。直到九十年代初，日本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电子产品的工业生产过程，并开始向我国个别外资LCD企业在要求技术保密的情况下提供UV光清洗机。随后，日本在发展紫外光表面清洗技术的同时，紫外光表面改质技术也得到了发展。在二十世纪末，日本等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术由信息产业逐步扩展到金属、塑料、橡胶等工业生产过程。二十世纪九十年代后期，我国的信息技术和产业以惊人的速度飞速发展，特别是平板显示技术的高速发展，LCD显示屏由TN级向STN和TFT不断提升，新型的OLED显示产品也开始进入市场。由此，对制备工艺过程表面质量要求越来越严格，紫外光表面清洗技术的优越性已经得到广泛认可，UV光清洗机的需求量正在不断增长。

      北京航天高力通科技发展有限公司注册于中关村园区海淀园，是集光清洗技术和光清洗机的研究、设计、生产、销售为一体的高新技术企业。公司依靠自己的力量，成功的开发了具有世界先进水平的工业化UV光清洗机系列产品，大功率低压紫外汞灯不仅在国内领先，而且与国际上同类产品水平相当，UV光清洗机的清洗效果达到国外先进水平。经清华大学化学系分析中心俄歇电子能谱仪检测，对ITO玻璃基片进行光清洗后，达到了原子清洁度。二○○三年六月，公司研制的紫外光表面清洗机获得国家知识产权局颁发的《发明专利》证书（专利号：ZL00105842.8，国际主分类号：HOIL21/30）。我公司目前是国内唯一专业从事光清洗机研制、生产、销售并获得UV光清洗机发明专利授权的单位；也是国内自行研制的UV光清洗机最早进入市场的高新技术公司。
光清洗技术的应用范围
光清洗技术的应用范围十分广泛，目前在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍，随着我国工业现代化的发展，光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。
1.在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；
2.印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。
3.大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。
4.在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生。
5.在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。
6.磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果更好。
7.石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。
8.在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。
9.彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。
10.敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高。
11.光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。
12.树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。
13.对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余的光刻胶、环氧树脂、焊剂，以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗是十分有效的方法。

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