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用途:用真空蒸发的方法制造较纯的薄膜无源及有源元件、薄膜电路。 主要技术数据:[Specifications] 序号 项  目 主要数据 1 蒸发室极限真空           Ultimate Vacuum in Evaporation Chamber 4X10-4Pa 2 蒸发室恢复至真空度         Vacuum Recovery 4X10-3Pa ≤15 min 3 蒸发电极的对数           Number of  Pairs of  Evaporating Electrodes 3 4 每对电极的功率           Power of each pair of  Electrodes 2Kw 5 同时蒸发电极对数          Number of pairs of Simultaneoud Evaporating  Electrodes 2 6 离子轰击参数电压          Ion Bombardment Parameter Voltage 0-3KV 7 离子轰击参数电流          Ion Bombardment Parameter Current 0-200mA 8 基片烘烤温度            Barking Temperature of  Substrate ≤200℃ 9 基片架转速             Rotating speed of substrate ≤60r.p.m 10 蒸发室尺寸             Size of  Evaporation Chamber Φ500X620 mm 11 电源                Power 380V/220V,50Hz,10KW 12 外形尺寸              Overall  dimmensions 1300*830*1820mm 13 重量                Weight 1000kg用户除可选用本公司系列产品外,还可根据要求定做;同时公司还承接同类产品的设备改造业务及本公司产品的优质售后服务。Customized equipment,spare parts and service for upgrading existing equipment available
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