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主要技术数据 蒸发室: φ1100×1100mm 极限真空度: 3×10-4Pa 恢复真空: 大气压至4X10-3Pa≤15min 基片烘烤: 最高350℃ 辉光放电: 直流3000V,500mA 电阻蒸发源: 5KW 电子束蒸发源: 4KW/8KW/10KW/15KW选配 真空系统: K630扩散泵 膜厚控制: 光学监控/石英晶体监控 耗水: 约40L/min 耗电: 约35KW
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