LPCVD(图),电子生产设备网

行业分站:

设为首页	免费注册	客客通	会员登录	企业建站	供应站	采购站
收藏本站	电子资讯	电子展会	二手设备	维修保养	设备加工	电子论坛

您当前的位置：电子生产设备网首页 >查看供应信息>> LPCVD(图)

如何搜索

LPCVD(图)

点此浏览大图

发布时间:		价格说明:
有效期:		产品数量:
浏览人数:		包装说明:
公　司:	青岛赛瑞达设备制造有限公司	联系人：	宋德鹏添加为商业伙伴

公司基本资料信息

最新供应 | 联系方式 | 公司介绍

详细说明

设备用于4-6″硅片淀积Si3N4、SiO2、Poly-Si、PSG、BPSG等薄膜生长工艺。1. 用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。2. 采用进口压力控制系统，闭环控制，稳定性高。3. 采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门，确保气路气密性。4. 具有完善的报警功能及安全互锁装置。5. 具有良好的人机界面，灵活的工艺性能。· 适用硅片尺寸：4-6″ · 装片数量：25～100片/炉管 · 工作温度范围：350～1100℃ · 温区长度及精度：760mm≤±1℃/500mm· 温度梯度：0～30℃/500mm可调· 系统极限真空度：0.7Pa(6×10-3乇)· 工作压力范围： 67Pa～133Pa可调· 淀积膜种类：Si3N4、Poly-Si、SiO2· 淀积膜均匀性：Si3N4 片内 ±5％片间 ±5％批间 ±5％· 淀积膜均匀性：Poly-Si 片内 ±5％片间 ±5％批间 ±5％· 淀积膜均匀性：SiO2 片内 ±5％片间 ±6％批间 ±6％· 淀积膜厚度：1000～6000埃

点击小图
浏览图片

会员产品信息推荐

更多产品

	地下水变送器(图)
	佛山市顺德区昊胜传感仪器
	点此询价留言进入该企业网站

	16A明装输入插座(
	威浦机电技术有限公司北京
	点此询价留言进入该企业网站

	12cr1movG合
	天津龙腾鑫达管材贸易有限
	点此询价留言进入该企业网站

【收藏此信息】

【打印此页】

【关闭该窗口】

免责声明：以上信息由企业自行提供，该企业负责信息内容的真实性、准确性和合法性。电子生产设备网对此不承担任何保证责任。
友情提醒：为保障您的利益，建议优先选择客客通会员！