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 1、 硅片清洗机
         硅片清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学
工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、
塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。
         可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。
◇全自动硅片清洗机    ◇手动硅片清洗机
(1) 硅片清洗设备特点

       手动硅片清洗设备特点:
◆ 可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。
◆ 功能槽包括:加热酸缸、HF腐蚀、BHF(HF恒温缓冲腐蚀)、超声清洗槽、恒温水浴、QDR(快排冲水)、电炉等。 
◆ 清洗功能槽模块化,各部分有独立的控制单元,可随意组合。
◆ 关键件采用进口部件,提高设备的可靠性及使用寿命。
◆ 采用进口耐腐蚀PP板材,防酸、防腐,有效避免酸液的侵蚀。
◆ 控制系统的元器件具备防腐、防潮功能,确保安全的工作环境。
◆ 结构紧凑,占地面积小,造型美观、实用。
◆ 操作符合人机工程原理,具有良好的操作界面,使用方便、灵活。
◆ 闭式清洗,有效改善工作环境,保障操作人员安全。

全自动硅片清洗设备特点:
◆ 进口伺服驱动机构及机械手臂,清洗过程中无需人工操作。
◆ 通过PLC实现控制,全部操作通过触摸屏界面一次完成。
◆ 可预先设制多条清洗工艺,可同时运行多条工艺。
◆ 自动化程度高,适用于批量生产,确保清洗质量的一致性。
◆ 自动氮气鼓泡装置可有效提高产品质量,缩短清洗时间。
◆ 可选装层流净化系统及自动配酸装置。

2  石英管清洗机
  (1) 石英管清洗机适用工艺
     由于化学和物理作用,对石英管吸收层进行腐蚀清洗,并且通过石英管的旋转作用,
使石英管腐蚀层均匀,通过在水槽中的清洗,使石英管表层污物清洗干净。
 酸洗 → 排液 → 注纯水 → 溢流 → 注水 →水洗→ 排液

(2) 石英管清洗机特点
◆ 采用浸泡、旋转式清洗;酸清洗为滚动浸泡式;水清洗为溢流式。
 ◆ 采用多点支撑式工件旋转驱动装置,稳定、可靠。
 ◆ 操作符合人机工程原理,具有良好的操作界面,使用方便、灵活。
 ◆ 可配置自动氮气鼓泡系统,有效提高产品质量,缩短清洗时间。
 ◆ 结构紧凑,净化占地面积小,造型美观、实用。
 ◆ 关键件采用进口件,提高了设备的可靠性。
 ◆ 采用进口耐腐蚀PP板材,防酸、防腐,有效避免酸雾的侵蚀。
 ◆ 封闭式清洗,有效改善工作环境,保障操作人员安全。
 ◆ 控制系统同时具备完善防腐、防潮功能,确保安全的工作环境

注:我公司可提供各种不同用途的清洗设备及相关设备,也可根据用户的要求制造其它非标设备。
 
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